一、光學鏡片清洗用超純水設備概述
光學鏡片清洗用超純水設備在設備的設計上,采用先進的技術,滿足實際生產的需要。光學鏡片主要是利用超純水將鏡片在制作過程中粘上的溶劑等清洗下去。光學鏡片清洗用超純水設備關鍵部件均采用進口材料制備,采用PLC+觸摸屏控制,系統運行穩定性高,水利用率高,運行可靠,大大的節省了人力成本和維護的成本。
二、光學鏡片清洗用超純水設備的工藝流程
反滲透+EDI制取鏡片清洗用超純水
采用反滲透水處理設備與電去離子(EDI)設備進行搭配的方式,這是一種制取高純水的新工藝,也是一種環保,經濟,發展潛力巨大的高純水制備工藝,其基本工藝流程為、原水→沙炭過濾器→軟水器-精密過濾器→反滲透設備→純水箱→電去離子(EDI)→純水箱。
這種方法用來制取超純水的工藝,不需要用酸堿進行再生便可連續制取超純水,對環境沒什么破壞性。
三、光學鏡片清洗用超純水的水質標準
中國國家電子級超純水規格GB/T11446、1-1997
電阻率 25℃ MΩ*cm |
硅 ≤μg/L |
銅 ≤μg/L |
鋅 ≤μg/L |
鎳 ≤μg/L |
鈉 ≤μg/L |
鉀 ≤μg/L |
氯 ≤μg/L |
>1μm顆粒 ≤個/ml |
細菌 ≤個/ml |
硝酸根 ≤g/L |
磷酸根≤μg/L | 硫酸根≤μg/L |
TOC ≤μg/L |
|
EW-I | ≥18* | 2 | 0。2 | 0。2 | 0。1 | 0。5 | 0。5 | 1 | 0。1 | 0。01 | 1 | 1 | 1 | 20 |
EW-II | ≥15 ** | 10 | 1 | 1 | 1 | 2 | 2 | 1 | 5 | 0。1 | 1 | 1 | 1 | 100 |
注*(95%時間不低于17),**(95%時間不低于13)。
四、光學鏡片清洗用超純水設備解決方案與設計優勢
1)、配備有原水箱,防止因自來水壓力不穩定對設備造成影響。
2)、配備有水箱進水電磁閥,比常規的浮球進水閥性能穩定。
3)、配備軟水器,并配備有專用鹽箱。
4)、采用進口超低壓反滲透膜,脫鹽率高,運行穩定,能耗降低20%。
5)、配備專用濃水調節閥,操作方便。
6)、反滲透設備、預處理整體機架,結構緊湊,安裝方便。
7)、反滲透采用全自動方式控制,主要元件采用進口元件,穩定性高,操作簡單方便。
光學鏡片清洗行業用超純水設備是根據光學行業清洗用超純水的水質專門設計而生產的超純水設備。萊特萊德作為專業生產超純水設備的廠家,我們生產的設備具有系統穩定性高,水利用率高,運行可靠,報價合理,是您選擇超純水設備的理想選擇。