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              電子半導體超純水設備-50T/H

              來源:超純水設備 責任編輯:南昌水處理工程師 發表時間:2018-11-24 13:02 點擊:

                電子工業對水質的要求

                微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

                50T/H電子半導體超純水設備適用場合

                1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路。

                2、LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏。

                3、高品質顯像管、螢光粉生產。

                4、半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗,超純材料和超純化學試劑、超純化工材料。

                5、實驗室和中試車間,汽車、家電表面拋光處理。

                6、光電產品。

                7、其他高科技精微產品。

                50T/H電子半導體超純水設備工藝

                1、預處理-反滲透-水箱-陽床-陰床-混合床-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-精密過濾器-用水對象

                2、預處理-一級反滲透-加藥機( PH調節)-中間水箱-第二級反滲透-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5 μ m精密過濾器-用水對象

                3、預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5 μ m精密過濾器-用水對象

                4、 預處理--反滲透--中間水箱--水泵--EDI裝置--純化水箱--純水泵--紫外線殺菌器--精制拋光混床---TOC分解器-0.2或0.5 μ m精密過濾器-用水對象 (新工藝)

                在光電行業中,前兩年,一般采用:反滲透+混床制水工藝較多。這是因為反滲透( RO )技術是一種利用膜分離去除水中離子的方法,盡管反滲透系統將水中 95%-98% 的離子去除,但還不能滿足工業生產的要求,其后續工藝必須使用離子交換設備。但由于混床需要周期性的再生且再生過程中使用大量的化學藥品(酸堿)和純水,因此已很難滿足于無酸堿純水系統。

                正因為傳統的離子交換已經越來越無法滿足現代工業和環保的需要,于是將膜和樹脂結合的 EDI 技術成為水處理技術的一場革命。該技術應用電再生離子交換除鹽工藝取代傳統混合離子交換除鹽工藝DI 。通過離子交換樹脂及選擇性離子膜達到高脫鹽效果,與反滲透結合的聯合工藝使產水水質可達 10~18M Ω• CM 的高規格產水。 與其它技術諸如電滲析、離子交換和蒸餾相比,具有能耗低、脫鹽率高、除菌能力強和操作簡單、維護方便的特點,大大節省了運行、維修成本。而且沒有廢水排放。

                對50T/H電子半導體超純水設備的需求要了解幾點內容

                1、純水的產水量(按每小時計算)。

                2、純水要求的水質(例如多少兆歐)。

                3、原水進水水質是什么水(例如自來水)。

                4、制作純水的工藝(工藝不一樣價格也不一樣)。

                5、用于生產什么產品(例如電池片)。

                在水處理行業技術都是比較成熟,我們也有做過很多行業的水處理設備,各方面我們有豐富的經驗。50T/H電子半導體超純水設備、電子行業超純水設備由于具備性能好、價格低、供貨及時、售后服務方便快捷等諸多優勢。

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